미소 띤 이재용, 네덜란드 성과 만족…경계현 "차세대 EUV 잘 쓸 수 있는 계기"

11일 네덜란드 떠나 15일 입국
다소 피곤한 모습에도 밝은 표정
ASML 협력 관계 강화 기대감

이재용 삼성전자 회장이 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문 동행을 마치고 15일 오전 서울 김포공항 비즈니스센터를 통해 귀국했다.

이 회장은 15일 오전 7시3분 서울김포비즈니스항공센터(SGBAC)에 도착해 취재진과 만나 네덜란드 출장 성과에 대해 "반도체가 거의 90%였다"고 밝혔다. 이 회장은 윤 대통령 일정에 맞춰 11일 네덜란드로 떠난 뒤 반도체 장비업체 ASML을 방문하는 등 관련 일정을 마치고 이날 귀국했다.

이 회장은 입국장을 나오는 길에 마주한 취재진을 상대로 "아침부터 일찍 나오셨다"며 인사를 건넸다. 새벽에 도착한 탓에 "잠이 막 깼다"며 다소 피곤한 모습을 보이기도 했지만 밝은 표정을 유지했다. 이번 출장과 관련해 만족감을 나타낸 것으로 보인다.

또 이 회장은 이번 출장 성과와 관련한 취재진 질문에 함께 도착한 경계현 삼성전자 DS부문장(사장) 어깨를 몇 차례 두드리며 "경 사장이 설명해 드릴 것"이라며 신뢰감을 나타내는 듯했다.

이 회장이 입국장을 떠난 뒤 경 사장은 이번 출장에서 네덜란드 반도체 장비사인 ASML과 협력 관계를 다진 것과 관련해 성과가 크다며 기대감을 밝혔다.

경 사장은 "극자외선(EUV) 장비가 (반도체 사업에 있어) 가장 중요한 장비 중 하나"라며 "반도체 공급망 입장에서 굉장히 튼튼한 우군을 확보했다"고 말했다.

이재용 삼성전자 회장이 네덜란드 출장을 마치고 15일 오전 서울김포비즈니스항공센터(SGBAC)에 도착해 취재진 질문에 답을 하고 있다. 사진=김평화 기자

삼성전자는 네덜란드에서 ASML과 만나 1조원을 투자, 국내에 R&D센터를 공동 운영하기로 협약을 맺었다. ASML이 해외에 공동 R&D센터를 두는 것은 첫 사례다 보니 반도체 업계 안팎의 주목을 받았다.

경 사장은 "이번에 협약식 하면서 동탄에다가 공동 연구소를 짓게 됐다"며 "거기서 하이 NA EUV 들여와서 ASML 엔지니어와 삼성 엔지니어들이 같이 기술을 개발하기로 했다"고 말했다.

또 이를 통해 "하이 NA EUV에 대한 기술적인 우선권을 삼성이 갖게 될 것"이라며 "장기적으로 D램이나 로직에서 하이 NA EUV를 잘 쓸 수 있는 계기를 만들지 않았나 생각한다"고 덧붙였다.

ASML과의 협력을 통해 경쟁사보다 장비를 더 빨리 들여올 수 있게 되냐는 취재진 질문에는 "장비를 빨리 들여온다는 관점보단 ASML 엔지니어와 삼성 엔지니어가 같이 공동 연구를 진행, 삼성이 하이 NA EUV를 더 잘 쓸 수 있는 협력 관계를 맺는 게 더 중요하다고 본다"고 설명했다.

한편 삼성전자는 14일 전사와 모바일경험(MX)사업부를 시작으로 글로벌 전략회의를 시작했다. 반도체 사업을 하는 디바이스솔루션(DS)부문 회의는 19일 예정돼 있다.

경 사장은 글로벌 전략회의와 관련해 보고 받은 내용이 있냐는 취재진 질문에 "다음 주 화요일에 한다"며 "그건 가봐야 한다"고 말을 아꼈다.

김평화 기자 peace@asiae.co.kr