韩国电气研究院查明SiC功率半导体缺陷发光波长为459纳米,而非424纳米
分析207片晶圆、10万余个缺陷……为修订国际标准提供依据
韩国研究团队发现,用于判定电动汽车和电力转换装置所用碳化硅(SiC)功率半导体缺陷的国际标准存在错误。此前约15年来被认为是某种特定缺陷特征的发光波长,与实际原子结构并不相符。研究团队通过直接比对缺陷发出的光与原子排列,确认准确波长并非原先的424纳米(10亿分之1米),而是459纳米。
韩国电气研究院称,首席研究员Na Moonkyung团队与忠南大学、HORIBA STEC Korea、SK Siltron等机构合作,建立了区分SiC功率半导体层错的新依据,并于23日公布了这一成果。
韩国电气研究院研究团队通过观测碳化硅(SiC)功率半导体的原子结构、进行光致发光(PL)测量和理论计算,分析了层错特性。研究团队确认,约15年来一直被认为发光波长为424纳米的“(4,1)弗兰克型层错”,实际发光波长为459纳米。研究团队供图
View original imageSiC功率半导体能够耐受高电压和高温,因此被应用于电动汽车和可再生能源设备等领域。然而,半导体晶体内部的原子层发生错位,形成层错时,可能会影响器件的性能和可靠性。
为在不破坏晶圆的情况下检测缺陷,业界采用光致发光(PL)检测,照射光线后分析其发出的波长。这种方法利用了不同缺陷会发出不同波长光线的特点。不过,不同缺陷可能发出相近波长的光,仅凭发光信号难以确定原子结构。
研究团队分析了从9家供应商提供的207片商用SiC晶圆中采集的104,439个层错数据。团队尤其关注弗兰克型层错中具有特定原子排列的“(4,1)缺陷”。自2010年前后起,这种缺陷一直被认为会发出波长为424纳米的光,该波长也被列入国际电工委员会标准“IEC 63068-3:2020”。
分析9个缺陷的发光、确认6个缺陷的原子结构……为重新审视国际标准提供依据
研究团队先通过光致发光检测确认缺陷位置,随后切割该部位,并使用原子分辨率电子显微镜进行观察。整个研究共分析了176个超薄样品;此次波长鉴定则调查了9个发出459纳米光线的缺陷,并利用其中6个缺陷的实际“(4,1)缺陷”原子结构得到确认这一结果。
韩国电气研究院研究团队对碳化硅(SiC)功率半导体中出现的多种层错的原子结构及电子、光学特性进行了比较分析。图示展示了不同类型的缺陷如何影响原子排列和发光波长。研究团队供图
View original image利用超级计算机进行的三种理论计算,也支持发光波长在450纳米左右,而非此前认定的424纳米。计算预测的波长约为444至450纳米,室温下测得的实际发光波长则为459纳米。研究团队据此揭示了此前波长归属存在错误,并为重新审视国际标准提供了科学依据。
预计这项成果将有助于降低SiC晶圆检测中错误分类缺陷的可能性,并在制造过程中更准确地追查缺陷成因。不过,实际生产现场的检测标准是否需要调整,以及器件可靠性是否能够因此提高,仍需进一步验证。
研究成果发表于国际学术期刊《材料学报》(Acta Materialia)2026年第321卷。Na首席研究员因SiC缺陷分析研究成果获得认可,还荣获由日本测量仪器企业HORIBA主办的“2026 HORIBA Masao奖”特别提名奖(Honorable Mention)。
Na首席研究员表示:“这项成果的重大意义在于,我们通过将发光信号与实际原子结构直接关联,纠正了长期沿用的全球判定标准中的错误。今后,我们不仅要识别缺陷类型,还要查明缺陷为何产生、如何加以控制,从而提升韩国功率半导体产业的质量竞争力。”
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