京畿道知事Chu Miae强调,针对半导体产业园区的工艺用水管理,不仅要管控水量,还应加强水质管理。调查发现,接纳利川SK海力士排放水的竹堂川,其氯离子和硫酸根离子浓度超过联合国粮食及农业组织的灌溉用水建议水平。京畿道计划要求政府制定相关标准,并要求企业提出改善水质的措施。


Chu Miae知事6日在个人社交媒体上表示:“半导体产业园区废水不仅要管控水量,水质管理也必不可少。若说第一次行政指导针对的是水量,那么此次提出的则是对水质的担忧。”


此前,Chu知事已要求即将入驻龙仁的三星电子和SK海力士提高工艺用水回用率,减少废水排放量。


京畿道保健环境研究院为预测龙仁SK海力士半导体工厂的工艺用水未来对安城古三水库的影响,对采用类似工艺的利川SK海力士附近竹堂川的水质进行了调查。8月26日及9月2日、3日开展的三次调查结果显示,适用韩国河流水质标准的9项指标均符合标准。


京畿道知事Choo Miae于6日在个人社交媒体上发布的文章

京畿道知事Choo Miae于6日在个人社交媒体上发布的文章

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问题在于,韩国尚未针对氯离子和硫酸根离子制定单独的河流水质标准。在距SK海力士排放口0.4公里处,测得氯离子平均浓度为731毫克/升,硫酸根离子浓度为1561毫克/升。在下游7.4公里处,两者浓度仍分别达到513毫克/升和1060毫克/升。


上述数值超过了联合国粮食及农业组织用于评估灌溉用水的氯离子标准355毫克/升,以及硫酸根离子通常范围0至960毫克/升。不过,仅凭此次调查尚无法断定农作物受损或古三水库水质恶化,调查也证实,随着水流向下游,离子浓度因稀释作用而降低。


Chu知事尤其担忧,龙仁半导体产业集群产生的工艺用水将流入农业用淡水湖古三水库,而非河流。



京畿道认为,为应对大量工艺用水流入农业用河流和湖泊的情况,有必要制定保护农业用水的管理标准。因此,京畿道计划要求政府针对氯离子和硫酸根离子单独制定排放许可标准,并敦促相关企业制定减少工艺用水排放量、改善水质的措施。


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