向三星电子、SK海力士入驻产业园供应工业用水
一期优先日供31万吨,至二期总供水能力达107.2万吨
从审批许可完成区段起陆续开工
为向龙仁半导体产业园每日供应31万吨工业用水,基础设施工程即将正式开工。该项目将从八堂水坝至龙仁半导体产业园铺设约47公里专用管线,为三星电子、SK海力士等入驻企业生产设施的运行供应所需用水。
气候能源环境部18日表示,将正式启动“龙仁半导体产业园综合供水项目”一期优先实施区段的设施建设工程。当天,政府将批准并公告一期优先实施区段的项目实施计划,随即开工建设。
政府为配合半导体生产设施建设进度,及时供应工业用水,决定从设计和审批许可程序已率先完成的区段开始施工。其余区段也将在相关程序完成后陆续开工。
龙仁半导体产业园综合供水项目旨在为三星电子入驻的龙仁尖端系统半导体国家产业园,以及SK海力士等企业入驻的龙仁半导体集群一般产业园供应工业用水。
半导体制造工艺必须稳定确保大规模用水。政府计划随着两个产业园的生产设施陆续投运、用水需求增加,分阶段建设日供水总规模达107.2万吨的综合供水设施。
一期项目将在八堂水坝至龙仁半导体产业园之间铺设约47公里专用管线,并建设1座加压泵站,以优先实现每日31万吨的供水能力。此后,将通过二期项目新增每日76.2万吨的供水能力。待一、二期项目全部完成后,日供水能力将达到107.2万吨。
政府计划综合考虑企业半导体生产设施建设进度和用水需求时间点,加快工程管理。尤其鉴于将开展大规模管线施工,政府还将与相关机构合作,加强施工过程中的安全与质量管理。
气候部水资源利用政策官Kim Hoeun表示:“将与相关机构合作,彻底管理施工过程中的安全、质量等各项事项。将以此次开工为契机,进一步加快项目推进,竭尽全力确保在企业需要的时间稳定供应充足用水。”
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