京畿道检查龙仁半导体集群……讨论供水及减少排放水方案等

by Lee YeongKyu

Published 18 Sep.2026 07:12(KST)

京畿道经济副知事Joo Hyeongcheol于17日前往龙仁市处仁区远三面一带，以及Jaetmalcheon、Godangcheon、Hancheon和安城高三水库现场，察看“龙仁半导体集群一般工业园区”建设进展，并与相关人士讨论支持方案。

正在龙仁市处仁区远三面一带建设的龙仁半导体集群一般工业园区，占地415.5996万平方米（约126万坪），于2022年4月开工，目标于2027年12月竣工。项目总投资为3.8045万亿韩元，预计将有SK海力士及约50家半导体相关企业入驻。

此次现场考察旨在讨论排放水问题，以确保龙仁半导体集群一般工业园区顺利建设。

京畿道知事Choo Mi-ae此前于上月表示，半导体产业所需供水与企业减少排放的努力应同步推进；她要求政府强化与高三水库排放有关的环境标准，并要求企业削减半导体工艺废水排放量。

京畿道半导体产业科、气候环境管理科、保健环境研究院等相关部门，以及SK海力士、龙仁一般产业园区株式会社等企业相关人士共同参加了考察。

Joo Hyeongcheol京畿道经济副知事17日前往龙仁半导体集群，与现场相关人士交谈。京畿道供图

与会人员在现场办公室听取项目整体推进情况后，依次检查排放水流动路径的全路段，了解排放水净化处理流程和水质管理计划，并就环境问题交换了全面意见。

Joo Hyeongcheol表示：“龙仁半导体集群是决定韩国半导体产业未来竞争力的核心基础。相关机构应确认企业制定的水质改善对策是否妥当，企业也应进一步加强与居民的沟通，制定切实有效的共赢方案，确保工业园区按期建成。”

他还承诺：“将不遗余力提供行政支持，推动工业园区建设按计划进行，为创造优质就业岗位和振兴地区经济作出贡献；同时，也将努力提前预防环境问题。”

本报道由人工智能(AI)翻译技术生成。