蔡司半导体部门CEO Frank Rommel
在彭博电视采访中指出技术差距
反对美国扩大出口管制：“将加速中国创新”
荷兰半导体设备企业ASML的核心合作伙伴蔡司认为，预计中国企业至少还需15年才能自主开发出极紫外（EUV）光刻设备技术，这一判断是合理的。
据彭博社2日（当地时间）报道，德国光学企业蔡司半导体部门首席执行官Frank Rommel在接受彭博电视采访时，就中国自主研发EUV光刻设备尚需约15年的预测表示，这是“合理的假设”。不过，他补充称，中国技术发展的速度难以准确量化。
蔡司向全球唯一生产EUV光刻设备的荷兰企业ASML独家供应光学设备。EUV设备是生产英伟达人工智能（AI）加速器等尖端半导体的必需设备。蔡司表示，其零部件被用于生产全球约80%的半导体。
目前，美国为阻止中国获得先进AI半导体及制造技术，限制ASML向中国出口最尖端设备。部分高性能浸没式深紫外（DUV）光刻设备同样须取得出口许可。Rommel首席执行官就美国将出口管制扩大至旧型号DUV设备一事表示：“我不认为此类出口限制会产生积极效果，反而会加速中国的创新。”
中国近期在自主开发浸没式DUV设备方面取得进展。今年7月，亦有报道称一家位于上海的企业已开始生产相关设备。Rommel首席执行官表示：“中国已研究这项技术数十年，因此并不令人意外。”但他同时指出，“仍须观察该设备实际具备何种性能”。他接着强调：“我们依然遥遥领先。”
此前，瑞士投资银行瑞银在近期报告中预测，中国至少还需10年以上才能掌握自主EUV技术。特别是分析光源及激光相关专利活动后，瑞银认为，中国的技术水平与ASML在实现EUV设备量产约15年前所处的阶段相似。报告指出：“与ASML相比，中国在良率和吞吐量方面仍存在差距，且受到监管限制，因此中国产光刻设备在海外市场投入使用的可能性较低。”
瑞银还预计，中国将在未来2至5年内具备量产浸没式DUV光刻设备的能力。浸没式DUV设备的技术水平虽低于EUV，但仍是半导体生产不可或缺的设备。该设备利用光线在硅晶圆上刻蚀精细复杂的电路图案。
本报道由人工智能(AI)翻译技术生成。
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