半导体光刻工艺环境控制设备专业企业Melcon正全面推进首次公开募股。
Melcon于31日表示，公司30日已获得韩国交易所对其在科斯达克市场上市预备审查的批准。主承销商为大信证券。
Melcon成立于2003年，是一家开发并供应可对半导体光刻工艺设备内部温度、湿度及特种气体环境进行超精密控制设备的企业。其主要产品包括超精密温湿度调节设备“温湿度控制系统（Temperature Humidity Control System）”和超精密净化控制系统“极限净化系统（Extreme Purifier System）”。温湿度控制系统和极限净化系统分别与TEL（东京电子）的涂胶显影设备及ASML的光刻设备联动，为光刻工艺的精密度提供支持。
随着半导体工艺不断微细化，光刻工艺环境控制的重要性日益提升。在光刻工艺中，即使温度和湿度发生细微变化，也可能改变光刻胶的黏度、蒸发速度、涂层厚度及化学反应特性。这可能导致图案失真、线宽波动和套刻误差，并进而造成良率下降。
Melcon已将三星电子、SK海力士等全球半导体企业纳入主要客户，在实现营收规模增长的同时提升了盈利能力。按合并口径计算，公司去年营业收入为418亿韩元，同比增长66.5%；营业利润为62亿韩元，营业利润率达14.7%。
Melcon首席执行官Kim Seongil表示：“公司将以上市为新的跃升契机，致力于成为受到全球半导体制造商和设备企业信赖的全球超精密环境控制解决方案企业。”
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