晋升落选后向中国泄露半导体技术的研究员……二审仍判实刑

by Kim Hyunjeong1

Published 19 Jun.2026 19:20(KST)

晋升落选后推进与中国企业合作经营
主犯获刑2年6个月……曾获缓刑的共犯刑期加重
“应为业界敲响警钟，防止类似犯罪”

因晋升落选后与中国企业勾结并窃取半导体相关技术的韩国某企业前研究员，在二审中也被判处实刑。

据韩联社19日报道，大田高等法院第1-1刑事部（审判长 Park Jinhwan）以违反《防止产业技术泄露及保护法》等罪名，对被起诉的韩国某企业前研究员A某（59岁）维持原判，判处有期徒刑2年6个月。与此同时，另外2名一同被起诉的共犯分别被判处比一审更重的有期徒刑1年6个月，以及有期徒刑2年并处罚金2000万韩元。

A某等人因于2019年至2020年间向中国企业提供半导体晶圆抛光（CMP）工艺图等核心技术资料而被起诉。据悉，他们通过电脑和工作手机接入公司内部网络查看机密后，再用个人手机拍摄等手法获取资料。

调查显示，作为主犯的A某在2018年高管晋升落选后，于次年6月与中国企业约定共同经营半导体抛光液（CMP slurry）制造业务。此后，他一边继续在原公司任职，一边利用即时通讯工具等方式，管理中国当地抛光液生产设备建设及相关业务。此外，他还拉拢其他公司研究员，参与将其挖至中国企业任职。

一审法院认为，“这是使受害公司在技术研究和开发方面投入的巨大努力与成本付诸东流，并严重破坏相关领域健康竞争秩序的犯罪行为”，并指出“这也是对国家产业竞争力造成负面影响的重大犯罪”。据此，法院判处A某有期徒刑2年6个月，对共犯则分别判处有期徒刑2年，缓刑3年；有期徒刑1年6个月，缓刑2年。

这些人分别以原判不当为由提起上诉，并主张泄露的资料并非国家核心技术。

不过，二审法院驳回了检方和被告方面针对A某提出的全部上诉。但法院采纳了检方关于共犯量刑过轻的主张，分别改判其实刑：有期徒刑2年并处罚金2000万韩元，以及有期徒刑1年6个月。