YCChem股价走强。极紫外线（EUV）光刻胶（PR）用清洗液实现商业化的预期，似乎正在影响股价。
29日上午10时53分，YCChem报3万韩元，较前一交易日上涨24.48%。
半导体工艺材料开发企业YCChem表示，其自主开发的用于EUV曝光工艺的清洗液产品，已启动全球客户量产线评估。
YCChem的EUV PR用清洗液自本月起，正在全球半导体客户企业的量产线中进行测试流程。如果量产测试评估通过，预计最快在今年下半年即可实现正式量产和供应。
YCChem的极紫外线光刻胶用清洗液在半导体EUV曝光工艺中用于涂覆光刻胶之后，起到在EUV工艺中防止因光源波长较短而产生的半导体图形桥连或崩塌，同时改善分辨率、粗糙度和灵敏度等性能的作用。
目前，韩国国内EUV PR用清洗液市场由一家德国企业垄断。如果YCChem成功实现商业化，将成为国产化首例。根据市场调研机构The Tech（TECHCET）数据，EUV PR用清洗液全球市场规模在2021年约为5000万美元，随着半导体纳米工艺的快速推进，预计到2025年将增长至2亿美元规模。
成立于2001年的YCChem是一家先进半导体材料开发企业，在半导体材料开发领域拥有多项“全球首次”纪录。该公司于2004年率先在全球开发出用于氟化氩（ArF）及氟化氪（KrF）光刻胶的清洗液。2015年，又全球首次推出用于特殊目的ArF浸没工艺的清洗液。YCChem目前正开展多种EUV光源用材料的开发，已开始EUV稀释剂（Thinner）、显影液（Developer）的量产，并在开发EUV光刻胶（EUV PR）、EUV底层涂层（Underlayer）等产品。
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