“每片晶圆成本将下降”……Han Sung Cleantech，超纯水首次国产化在即
向SK Siltron晶圆供应设备至明年
先进半导体必需品“超纯水”仍依赖日本和欧洲
显示器、基板等先进工艺需求或将大增
水处理专业企业Hansung Cleantech即将实现真正的超纯水国产化。该公司计划在明年之前向以12英寸（300毫米）晶圆为基准、位居全球第三的企业SK Siltron投入其自主制造的设备。SK Siltron目前在超纯水相关设备方面使用日本和欧洲等地的进口产品，如果从明年开始改用国产设备，有望提升价格竞争力。相关业界认为，只有连设备都实现国产化，才算得上“国产超纯水”。
超纯水是去除了电解质、有机物、微生物等水中杂质的水。主要用于半导体晶圆（晶片）制造、前道工序、封装（后道工序）阶段对晶圆进行清洗。
Hansung Cleantech代表理事社长Park Jongun上月29日在首尔本社接受采访时表示：“我们正在制作每小时可供应400吨以上超纯水的大容量超纯水生产设备”，“将向SK Siltron供应该设备”。
SK Siltron已经自去年5月起，每天使用由Hansung Cleantech技术生产的1200吨超纯水。但设备仍维持使用日本、欧洲等地的进口产品。若明年引进Hansung Cleantech设备，SK Siltron的超纯水供应量将比现在增加一倍。
超纯水国产化最大的优势在于可以降低成本。同行出席采访的Hansung Cleantech未来技术研究所所长Gil Daesu表示：“目前每片晶圆约3000韩元的超纯水单价，将有机会进一步降低。”超纯水业界认为，日本企业的定价比韩国高出约20%至30%。如果国内超纯水企业赶上日本企业的技术水平并扩大供货量，那么对于SK Siltron等大型企业而言，也有助于降低生产单价。
超纯水被用于人工智能半导体、晶圆代工（半导体代工生产）等尖端工艺。尤其是在制造7纳米（nm，1nm＝10亿分之1米）以下的人工智能半导体、10纳米出头区间的DRAM等产品时，如果不用超纯水清洗晶圆，就会产生颗粒（微粒），从而导致半导体被污染。对于英伟达的人工智能半导体以及三星电子、SK海力士要更高效地生产高端半导体而言，超纯水是不可或缺的。根据全球水产业调研机构GWI（Global Water Intelligence）的数据，截至2021年，全球半导体企业超纯水使用率约为40%。近期，不仅半导体、显示器企业，基板企业也开始在工艺中使用超纯水。
Hansung Cleantech认为，向SK Siltron供货将成为扩大主要需求方的契机。Gil Daesu所长称：“向SK Siltron供货本身就是我们超纯水达到世界水平的证据。”
能够向SK Siltron供货，是20年来持续叩门的结果。1994年，该公司中标LG Micron（现LG Innotek）第三工厂超纯水设备项目，迈出了业务第一步，但过程并不顺利，原因在于技术差距。根据KAIST教授Kang Seoktae在2022年9月发表的资料，韩国的超纯水技术水平约为日本的81%，技术差距为3.6年。虽然具体数值可能存在争议，但三星电子等主要企业对使用国产超纯水仍有所犹豫，这一点似乎毋庸置疑。
在被选为环境部“2021—2025年超纯水生产国产化研究开发（Research and Development）项目”企业之后（预算300亿韩元，如计入民间资金则为443亿韩元），Hansung Cleantech得以拿下与SK Siltron的超纯水合同。
Park代表正关注近期政府发布的“超级集群”政策。他评价称：“这意味着已经确保了能够支撑未来10至20年的市场。”Hansung Cleantech目前在平泽、华城、龟尾拥有工厂。其最终目标是“向位于京畿道的材料·零部件·设备集群内的需求企业供货”。京畿道内有三星电子平泽、华城工厂及SK海力士利川工厂，两家公司也正在龙仁建设工厂。Park代表强调：“为了提升生产能力，计划在3年内对平泽工厂进行改造。”
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