ASML 협력사, 中EUV 장비 개발 15년 전망에 "합리적 추정"(종합)

프랑크 로문트 자이스 반도체 부문 CEO
블룸버그TV 인터뷰서 기술 격차 지적
美수출통제 확대에 반대 "中 혁신 가속화"

네덜란드 반도체 장비 업체인 ASML 로고. 로이터연합뉴스

네덜란드 반도체 장비 업체 ASML의 핵심 협력사인 자이스가 중국 업체들이 자체 극자외선(EUV) 노광장비 기술을 개발하기까지 15년 이상 걸릴 것이라는 추정이 합리적이라고 평가했다.

2일(현지시간) 블룸버그통신에 따르면 독일 광학기업 자이스의 프랑크 로문트 반도체 부문 최고경영자(CEO)는 블룸버그TV와의 인터뷰에서 중국이 EUV 노광장비를 자체 개발하기까지 15년가량 걸릴 것이란 전망에 대해 "합리적인 가정"이라고 밝혔다. 다만 중국의 기술 발전 속도를 정확히 수치화하기는 어렵다고 덧붙였다.

자이스는 세계에서 유일하게 EUV 노광장비를 생산하는 네덜란드 ASML에 광학장비를 독점 공급한다. EUV 장비는 엔비디아의 인공지능(AI) 가속기 등에 들어가는 최첨단 반도체 생산에 필수적이다. 자이스는 자사 부품이 전 세계 반도체의 약 80%를 생산하는 데 사용된다고 설명했다.

현재 미국은 중국이 첨단 AI 반도체와 제조 기술을 확보하는 것을 막기 위해 ASML의 최첨단 장비 대중 수출을 제한하고 있다. 일부 고성능 침지식 심자외선(DUV) 노광장비 역시 수출 허가 대상이다. 로문트 CEO는 미국이 수출통제를 구형 DUV 장비까지 확대하는 데 대해 "이러한 수출 제한이 긍정적인 효과를 낸다고 생각하지 않는다"며 "오히려 중국의 혁신을 가속하기 때문"이라고 말했다.

중국은 최근 자체 침지식 DUV 장비 개발에서 성과를 내고 있다. 지난 7월에는 상하이 소재 기업이 관련 장비 생산에 들어갔다는 보도도 나왔다. 로문트 CEO는 "중국은 수십 년간 이 기술을 연구해왔기 때문에 놀라운 일은 아니다"라면서도 "이 장비가 실제로 어느 정도 성능을 갖췄는지 지켜봐야 한다"고 말했다. 이어 "우리는 여전히 훨씬 앞서 있다"고 강조했다.

앞서 스위스 투자은행(IB)인 UBS는 최근 보고서에서 중국이 자체 EUV 기술을 확보하기까지 최소 10년 이상이 걸릴 것으로 전망했다. 특히 광원과 레이저 관련 특허 활동을 분석한 결과 중국의 기술 수준이 ASML이 EUV 장비 양산에 나서기 약 15년 전과 비슷한 단계라고 평가했다. 그러면서 "ASML과 비교해 수율과 처리량에서 격차가 있고 규제 제약도 존재하는 만큼 중국산 노광장비가 해외 시장에서 사용될 가능성은 낮다"고 짚었다.

UBS는 또 중국이 향후 2~5년 안에 액침식 DUV 노광장비를 대량생산할 수 있는 역량은 확보할 것으로 내다봤다. 액침식 DUV 장비는 EUV보다 기술 수준은 낮지만 반도체 생산에 여전히 필수적인 장비다. 빛을 이용해 실리콘 웨이퍼에 미세하고 복잡한 회로 패턴을 새기는 데 사용된다.

차민영 기자 blooming@asiae.co.kr

기자가 작성하고 AI가 부분 보조한 기사입니다.