'승진 탈락' 뒤 반도체 기술 中에 넘긴 연구원…항소심도 실형

승진 탈락 뒤 중국 업체와 동업 추진
주범 징역 2년6개월…집유 받았던 공범 형량↑
"업계에 경종 울려 유사 범죄 막아야"

승진에서 탈락하자 중국 업체와 손잡고 반도체 관련 기술을 빼돌린 국내 기업 전직 연구원들이 항소심에서도 실형을 선고받았다.

연합뉴스는 19일 대전고법 제1-1형사부(박진환 부장판사)가 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 국내 모 기업 전 연구원 A(59)씨에게 원심과 같은 징역 2년 6개월을 선고했다고 보도했다. 함께 재판에 넘겨진 공범 2명에게는 1심보다 무거운 징역 1년 6개월과 징역 2년·벌금 2000만원이 각각 선고됐다.

A씨 등은 2019∼2020년 반도체 웨이퍼 연마(CMP) 공정도 등 핵심 기술 자료를 중국 업체에 넘긴 혐의로 재판에 넘겨졌다. 이들은 컴퓨터·업무용 휴대전화로 회사 내부망에 접속해 기밀을 열람한 뒤, 개인 휴대전화로 촬영하는 등의 수법으로 자료를 확보한 것으로 알려졌다.

주범인 A씨는 2018년 임원 승진에서 탈락한 뒤 이듬해 6월 중국 업체와 반도체 연마제(CMP 슬러리) 제조 사업을 동업하기로 약정한 것으로 조사됐다. 이후 회사를 계속 다니면서 메신저 등을 이용해 중국 현지 연마제 생산설비 구축과 사업을 관리한 것으로 드러났다. 또 다른 회사 연구원들을 포섭해 중국 업체로 이직시키는 데도 관여했다.

1심 재판부는 "피해 회사들이 기술 연구·개발에 투입한 막대한 노력과 비용을 헛되게 하고, 관련 분야의 건전한 경쟁 질서를 심각하게 훼손한 범죄"라며 "국가 산업 경쟁력에도 악영향을 미친 중대한 범행"이라고 판단했다. 그러면서 A씨에게 징역 2년 6개월을 선고하고, 공범들에게는 각각 징역 2년에 집행유예 3년, 징역 1년 6개월에 집행유예 2년을 선고했다.

이들은 각각 원심이 부당하다고 항소하면서 유출한 자료가 국가 핵심기술이 아니라는 주장을 펼쳤다.

그러나 항소심은 A씨에 대한 검찰과 피고인 측의 항소를 모두 기각했다. 다만 공범들의 형이 너무 가볍다는 검찰의 주장을 받아들여 각각 징역 2년·벌금 2000만원, 징역 1년 6개월의 실형을 선고했다.

항소심 재판부는 범행이 계획적·조직적으로 이뤄졌고 반도체 산업 전반에 경각심을 줄 필요가 있다며 엄중한 처벌이 불가피하다고 판단했다. 또 유출된 자료가 국가 핵심기술이 아니라는 피고인들의 주장도 받아들이지 않았다.

김현정 기자 kimhj2023@asiae.co.kr