日독점 EUV용 포토레지스트, 국내 개발 착수

국내 기업 차세대 반도체 소재 연구개발 착수

일본 거래선과도 지속 협력 방침 '투트랙' 전략

[아시아경제 박소연 기자] 삼성전자 차세대 반도체 공정에 사용되는 극자외선(EUV)용 '포토레지스트(감광액)'를 국내 A사가 개발중인 것으로 확인됐다.

포토레지스트는 사실상 일본 기업이 독점하고 있는 반도체 소재중 하나다. 일본의 반도체 핵심소재 수출규제를 정면으로 돌파하기 위한 자구책으로 풀이된다.

24일 업계에 따르면 국내 반도체 소재 기업 A사는 삼성전자 경기도 화성 신규 EUV 생산공정에 투입될 포토레지스트 공동 연구개발(R&D)에 착수했다. 삼성전자 엔지니어들이 화성 EUV공정에서 테스트를 하고, A기업 연구원들과 그 결과를 공유하는 방식이다. 관련기사 3면

포토레지스트는 반도체 제조의 첫 단계인 노광(露光) 공정에 필요한 소재다. 반도체 원재료인 웨이퍼에 빛을 쏴 원하는 모양의 회로를 그리는 공정이다.

올 1~5월 대(對) 일본 포토레지스트 수입액은 1억351만6000달러(한화 1220억원)다. 전체 포토레지스트 수입량 중 대일 의존도가 91.9%에 달했다. 일본이 수출규제 품목에 '포토레지스트'를 포함시킨 이유다.

삼성전자는 화성 EUV생산공정을 '반도체 비전 2030'전략의 핵심으로 삼고 있다. 삼성전자는 지난 4월 2030년까지 133조원을 투자해 시스템 반도체 분야 1위를 달성하겠다는 반도체 비전 2030을 밝힌 바 있다. 삼성전자는 2020년부터 화성 EUV생산라인을 가동한다는 계획을 세우고 있다.

삼성전자 관계자는 "차세대 EUV 공정에 대한 기대감으로 글로벌 업체들의 주문이 몰렸다"면서 "고객들의 신뢰가 흔들리지 않도록 최선의 노력을 다하겠다"고 말했다.

박소연 기자 muse@asiae.co.kr